设置 OpenGL 样本位置



是否可以将 OpenGL 光栅化的样本位置从 (0.5, 0.5) 更改为其他位置?(我指的是在没有任何多重采样等的情况下渲染时使用的采样位置。

原因是我想通过将多个渲染结果与不同的样本位置混合来实现抗锯齿。然后,我需要将来自顶点着色器的变量插值到像素内的不同位置。

如果您的驱动程序支持专用 GL 扩展 (https://www.opengl.org/registry/specs/ARB/sample_locations.txt),则可以使用它。

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