我正在尝试制作一个自阴影对象（opengl/glsl）。我做的步骤是：
1-从灯光渲染场景以获得深度图
2-从摄影机位置渲染并计算每个点到光源的距离，如果点到灯光的距离大于深度图中存储的深度，则该点处于阴影中。
但随后出现了阴影痤疮的问题。所以，第二步应该是：
2-。。。如果（abs（DISTANCE_OF_THE_POINT_TO_LIGHT-DEPTHSTORED_IN_THE_DEPTH_MAP）>BIAS）该点处于阴影中。
但它仍然没有给我好的结果（没有合适的偏差值）。
所以，我实现了woo-trick（从光中找到第一个和第二个表面，然后将中点存储在深度缓冲区中）。为了做到这一点，我做了两次深度剥离。步骤是：
1-像往常一样，从灯光渲染场景以获得第一个深度贴图。
2-从灯光渲染场景以获得第二个深度贴图，如果一个点到灯光的距离等于第一个深度贴图中的距离，则丢弃该点（即，不渲染第一层）。
3-存储为您的最终深度图（第一个深度图+第二个深度图）/2
4-从相机位置渲染并计算每个点到光源的距离，如果点到灯光的距离大于深度图中存储的深度，则该点处于阴影中。
问题现在出现在步骤2中，与我们以前遇到的问题相同：当第一层和第二层接近时，会出现舍入误差，还会出现某种痤疮，而且也没有合适的偏差值。所以，我没有从woo算法中得到任何好处，它只是将问题转移到深度剥离部分。
你怎么能解决这个问题？
我没有从woo算法中得到任何好处，它只是移动深度剥离部分的问题。
在深度剥离和阴影映射中都存在Z战斗问题，但阴影映射的情况要糟糕得多。
使用阴影贴图，您位于摄影机空间中，在阴影贴图空间中计算z值和采样位置（x,y）。问题是，阴影贴图空间中通常没有样本（x,y），所以您取最接近（x,y）的样本，然后将阴影深度与z值进行比较。
与阴影贴图不同，在深度剥离中，您将在相同的采样位置（相同的阴影贴图空间）比较z值。如果你能负担得起的话，这实际上是一个对抗阴影伪影的优秀解决方案，但它不会在所有情况下都有帮助，例如：
如果你在屏幕上有一个大物体，比方说一栋房子。房屋在阴影图上的投影可以位于几个甚至单个样本（一个像素）内，并且在这种情况下，为房屋计算的所有z值将与阴影图中的相同z值进行比较。相反，屏幕上的一个像素可能对应于阴影图中的一个巨大区域。
提高成绩的建议：
确保DEPTH_STORED_IN_THE_DEPTH_MAP的计算方式与DISTANCE_OF_THE_POINT_TO_LIGHT完全相同。要特别注意隐藏的固定管道算法。要么将它们用于DEPTH_STORED_IN_THE_DEPTH_MAP和DISTANCE_OF_THE_POINT_TO_LIGHT，要么永远不要使用它们。
使用32位浮点纹理来存储深度。
尝试百分比接近过滤器PCF。
深度剥离为您提供自适应BIAS。您也可以使用自适应分辨率：级联阴影贴图。